ZnO压敏电阻器的性能及发展

• 作者: 傅静 徐政
• 来源期刊: 现代技术陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO压敏电阻器 性能 发展 添加剂 Bi2O3 TiO2 晶粒生长
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 综述与述评
• 页码范围: 31-36
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174
• 字数: 6234字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-1198.2004.01.008

摘要

简要回顾了ZnO压敏电阻器的历史,阐述了ZnO压敏电阻器的性能以及当前基础性研究的现状,并对其发展进行了展望.研究了Bi2O3和TiO2的掺杂对低压ZnO压敏电阻性能和微观结构的影响规律,从理论上分析了Bi2O3和TiO2添加剂的作用机理.为ZnO压敏电阻的低压化提供了理论依据和方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐政	同济大学材料科学与工程学院	160	2312	24.0	39.0
2	傅静	同济大学材料科学与工程学院	2	64	2.0	2.0