低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜

• 作者: 刘力锋 刘志凯 张富强 李艳丽 杨少延 陈晨龙 陈诺夫
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 低能离子束 硅 铁 薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 558-562
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.7
• 字数: 2987字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.030

摘要

利用质量分离的低能离子束技术,获得了Fe组分渐变的Fe-Si薄膜.利用俄歇电子能谱法(AES)、 X射线衍射法(XRD)以及X射线光电子能谱法(XPS)测试了薄膜的组分、结构特性.测试结果表明,在室温下制备的Fe-Si薄膜呈非晶态.非晶薄膜在400 ℃下退火20 min后晶化,没有Fe的硅化物相形成.退火后Fe-Si薄膜的Fe组分从表面向内部逐渐降低.