磁控溅射原理的深入探讨

• 作者: 童洪辉 赵嘉学
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁力线走廊 磁阻力 横向磁约束 电子浓度分布
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 74-79
• 页数: 6页
• 分类号: O539|TB43
• 字数: 6205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.04.018

摘要

从更深层次--电子在非均匀电磁场中的运动规律,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因.对工件温升、临界磁场、脱缚电子的能量及原因、刻蚀跑道断面形状的成因等作了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童洪辉		51	520	10.0	21.0
2	赵嘉学		5	218	4.0	5.0