衬底偏压对四面体非晶碳膜结构和性能的影响

• 作者: 孟松鹤 朱嘉琦 檀满林 韩杰才
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 四面体非晶碳 过滤阴极真空电弧 衬底偏压 Raman光谱 机械性能
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 76-81
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 字数: 3272字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3093.2004.01.013

摘要

采用过滤阴极真空电弧技术并施加一定的衬底负偏压,在P(100)单晶硅片上制备出四面体非晶碳薄膜利用可见光Raman光谱研究薄膜的结构,通过BWF函数描述的单斜劳伦兹曲线拟合数据并获得表征曲线非对称性的耦合系数,从而反映了薄膜中sp3杂化的含量分别用原子力显微镜和纳米压入仪研究薄膜的表面形态和力学性能.结果表明:当衬底偏压为-80V时,薄膜中sp3杂化的含量最多,均方根表面粗糙度值最低(Rq=0.23nm),硬度、杨氏模量和临界刮擦载荷也最大,分别为51.49GPa、512.39GPa和11.72mN.随着衬底偏压的升高或降低,sp3键的含量减少,其它性能指标也分别降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩杰才		298	4663	35.0	52.0
2	孟松鹤		137	1793	22.0	36.0
3	朱嘉琦		48	177	7.0	10.0
4	檀满林		6	30	4.0	5.0