单晶硅表面等离子体基离子注入碳纳米薄膜的摩擦学特性

• 作者: 严洁 刘维民 廖家轩 徐洮 薛群基
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 等离子体基离子注入(PBII) 碳纳米薄膜 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 115-118
• 页数: 4页
• 分类号: TG142.2
• 字数: 2067字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2004.02.005

摘要

用等离子体基离子注入(PBII)技术在单晶硅表面制备了碳纳米薄膜,考察了薄膜在不同载荷及速度下同Si3N4球对摩时的摩擦学性能,并采用扫描电子显微镜观察分析了磨痕表面形貌.结果表明,所制备的碳纳米薄膜光滑致密,为高硬度富弹性的类金刚石碳(DLC)膜,薄膜通过C-Si键合作用而同硅片表面形成牢固结合,且成分及结构呈现某种梯度变化特征,单晶硅经改性后摩擦学性能大幅度改善:在低载荷(0.5 N)下其耐磨寿命达3 h以上,摩擦系数处于0.10～0.30之间,磨痕不明显;在高载荷(4 N)下其耐磨寿命及摩擦系数(0.03～0.20之间)均明显降低.这是由于较高载荷或滑动速度导致DLC薄膜石墨化加剧所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘维民	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	307	5597	38.0	57.0
2	薛群基	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	219	3991	32.0	53.0
3	徐洮	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	75	815	16.0	23.0
4	廖家轩	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	2	24	2.0	2.0
5	严洁	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	2	15	1.0	2.0