TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响

• 作者: 刘越 孙超 宋贵宏 郑静地
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电弧离子镀 TiAlN膜层 织构 TiAl过渡层 结合强度 内应力
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 422-427
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3562字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.035

摘要

利用电弧离子镀,在不锈钢和SiCP增强2024铝基复合材料基底上沉积TiAlN薄膜.结果表明:TiAlN膜层直接沉积在不锈钢基底上,膜层呈[111]择优取向;然而,TiAlN膜层沉积在不锈钢基底的TiAl过渡层上,膜层呈[220]方向择优取向;并且随着过渡层从零开始增厚,TiAlN膜层的织构系数T(111)逐渐减小,而T(200)逐渐增大,但膜层一直以[220]方向择优取向,内应力的存在可能是膜层产生[220]方向择优取向的原因.在复合材料基底TiAl过渡层上沉积,随着负脉冲偏压的增加,TiAlN膜层的择优取向由[111]向[200]转变.在不锈钢基底上,没有TiAl过渡层时,膜层表面相对光滑,大颗粒较少;有了TiAl过渡层,表面大颗粒较多;TiAl过渡层不同沉积时间对膜层表面影响不大,颗粒尺寸相差无几.没有TiAl过渡层时,膜层结合强度很差,有了TiAl过渡层,结合强度明显增加,但结合强度的大小随过渡层沉积时间(厚度)变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘越	中国科学院金属研究所	30	720	14.0	26.0
2	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
3	宋贵宏	沈阳工业大学材料科学与工程学院	25	145	7.0	11.0
4	郑静地	中国科学院金属研究所	3	55	3.0	3.0