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摘要:
为使半导体产品达到所要求的光学、电子和机械性能,必须实时地在沉积过程中直接测量薄膜应力.介绍了一种简便的薄膜应力测量装置方案,它可进行各种单晶、多晶和非晶结构材料沉积过程的现场应力测量,灵敏度优于2.5×106 Pa,精度优于5%.该方案具有结构简单、测量速度快、适应性强等特点,可以应用于半导体集成电路生产线的薄膜生长过程控制检测.
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文献信息
篇名 圆片表面薄膜应力传感器设计
来源期刊 半导体光电 学科 物理学
关键词 薄膜应力 全闭环控制 集成二元光栅 测量灵敏度 测量误差
年,卷(期) 2004,(1) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 79-82
页数 4页 分类号 O439
字数 3384字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.01.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郑亚娥 西安电子科技大学理学院 3 19 2.0 3.0
2 林晓春 西安电子科技大学技术物理学院 36 305 9.0 16.0
3 郭艳艳 西安电子科技大学理学院 8 40 4.0 6.0
4 向健勇 西安电子科技大学技术物理学院 32 301 11.0 15.0
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研究主题发展历程
节点文献
薄膜应力
全闭环控制
集成二元光栅
测量灵敏度
测量误差
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
相关基金
陕西省自然科学基金
英文译名:Natural Science Basic Research Plan in Shaanxi Province of China
官方网址:
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学科类型:
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