脉冲电解制备纯铜的工艺条件

• 作者: 何建波 李学良 陈少华 鲁道荣
• 来源期刊: 有色金属
• 学科: 工学
• 关键词: 有色金属冶金 铜 脉冲电解 工艺条件 结晶形态
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 提取冶金与化学
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TF811|TF804.4|TF114.5
• 字数: 2822字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1744.2004.03.013

摘要

在小型电解槽中,研究脉冲电解法精炼铜的最佳工艺条件.脉冲电解参数为:平均电流密度500A/m2,脉冲宽度6.0ms,脉冲间隔12.0ms.结果表明,最佳电解工艺条件:电解温度30℃;硫酸浓度140～180g/L;极间距5～6cm;氯离子添加量3.0mg/L;硫脲添加量0.5mg/L;骨胶添加量0.75 mg/L;有害杂质允许含量(g/L),As3+≤0.1,Sb3+≤0.05,Bi3+≤0.05.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李学良	合肥工业大学化工学院	103	593	13.0	17.0
2	鲁道荣	合肥工业大学化工学院	104	539	13.0	15.0
3	何建波	合肥工业大学化工学院	66	597	12.0	20.0
4	陈少华	合肥工业大学化工学院	10	94	5.0	9.0