纳米级精细线条图形的微细加工

• 作者: 任黎明 周毅 张兴 王文平 陈宝钦 黄如
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微细加工 电子束光刻 邻近效应校正 ICP刻蚀
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1722-1725
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3242字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.12.034

摘要

对分辨率极高的电子束光刻技术和高选择比、高各向异性度的ICP刻蚀技术进行了研究,形成一套以负性化学放大胶SAL-601为电子抗蚀剂的电子束光刻及ICP刻蚀的优化工艺参数,并利用这些优化参数结合电子束邻近效应校正等技术制备出剖面形貌较为清晰的30nm精细线条图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周毅	北京大学信息科学技术学院微电子学系	33	105	5.0	9.0
2	黄如	北京大学信息科学技术学院微电子学系	87	413	9.0	17.0
3	张兴	北京大学信息科学技术学院微电子学系	120	618	12.0	20.0
4	陈宝钦	中国科学院微电子研究所	50	361	11.0	16.0
5	王文平	北京大学信息科学技术学院微电子学系	6	29	4.0	5.0
6	任黎明	北京大学信息科学技术学院微电子学系	4	22	3.0	4.0