CVD金刚石厚膜的机械抛光及其残余应力的分析

• 作者: 卢文壮 左敦稳 彭文武 徐锋 王珉 黎向锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石厚膜 机械抛光 正交试验 残余应力 XRD
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 436-440
• 页数: 5页
• 分类号: TG175
• 字数: 3120字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.038

摘要

较粗糙的表面是影响金刚石厚膜广泛使用的因素之一.本文对CVD金刚石厚膜进行了机械抛光的正交实验研究.实验结果表明,影响抛光效率的因素依次为抛光盘的磨粒、转速、正压力和抛光面积.采用较大粒度的磨盘,适当增加转速和压力有利于提高抛光的效率.此外用XRD方法对机械抛光前后的膜的残余应力进行了测定和对比分析,结果表明,经过机械抛光,残余拉应力明显减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
3	徐锋	南京航空航天大学机电学院	85	541	13.0	18.0
4	王珉	南京航空航天大学机电学院	205	2631	27.0	40.0
5	黎向锋	南京航空航天大学机电学院	109	810	15.0	20.0
6	彭文武	南京航空航天大学机电学院	1	33	1.0	1.0