超高真空中SrTiO3薄膜同质外延生长的过程研究

• 作者: 刘兴钊 张鹰 李言荣 李金隆 邓新武 陶伯万
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 超高真空 SrTiO3 同质外延 反射式高能电子衍射 层状生长模式
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O484.5
• 字数: 1970字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.01.016

摘要

在超高真空下利用激光分子束外延(LMBE)方法基于SrTiO3(100)单晶基片同质外延SrTiO3薄膜.通过反射式高能电子衍射(RHEED)对生长过程进行原位监测,发现对基片的预热处理明显有利于改善其晶面结构,当在其上同质外延SrTiO3薄膜时,容易实现单晶层状生长模式,并得到原子级平整度的铁电薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹰	电子科技大学微电子与固体电子学院	47	169	7.0	9.0
2	邓新武	电子科技大学微电子与固体电子学院	17	97	5.0	9.0
3	李金隆	电子科技大学微电子与固体电子学院	12	66	5.0	7.0
4	李言荣	电子科技大学微电子与固体电子学院	115	824	15.0	21.0
5	刘兴钊	电子科技大学微电子与固体电子学院	56	310	9.0	14.0
6	陶伯万	电子科技大学微电子与固体电子学院	39	165	5.0	10.0