N+离子注入Ti-4Al-2V合金的表面分析研究

• 作者: 吴继红 封向东 王治国 祖小涛 邓炯
• 来源期刊: 四川大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti-4AL-2V合金 离子注入 XRD XPS
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 784-787
• 页数: 4页
• 分类号: O485
• 字数: 1525字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2004.04.022

摘要

作者采用3×1017/cm2和8×1017cm2两种注量对Ti-4Al-2V合金样品进行了N+离子注入,N离子能量75keV,在注入过程中样品温度控制在200℃以下.对注入前后的样品进行了X射线衍射(XRD)以及光电子能谱(XPS)分析.由XRD衍射谱表明,离子注入后有新相TiN和TiO2生成.由XPS宽程扫描谱表明,注入后样品表面主要为Ti,C,N和O.对Ti2p和N1s的XPS窄程扫描谱也证明,离子注入后致使合金近表面形成了TiN和TiO2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祖小涛	电子科技大学物理电子学院应用物理系	111	627	12.0	17.0
2	王治国	电子科技大学物理电子学院应用物理系	20	92	6.0	7.0
3	封向东	四川大学物理系	17	74	6.0	8.0
4	吴继红	电子科技大学物理电子学院应用物理系	23	277	9.0	16.0
5	邓炯	四川大学物理系	3	2	1.0	1.0