一种制备c-BN表面硬化层的新方法

• 作者: 王钧石
• 来源期刊: 学术动态
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

立方氮化硼(c-BN)是一种倍受重视的类金刚石材料.在迄今发现的所有物质中,其硬度居第二位(仅次于金刚石).此外,c-BN还具有远比金刚石高的热稳定性,极其优良的半导体性和光学性能.因此,c-BN在高温耐磨零件,切削刀具、高温电子元件和光学仪器上得到广泛应用.目前所采用的c-BN薄膜的制备方法主要是:化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体化学气相沉积(PCVD)和离子束增强沉积(IBAD).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王钧石		1	0	0.0	0.0