高氧压下氧化物薄膜同质和异质外延的RHEED实时监测

• 作者: 朱小红 李洁 王萍 郑东宁 陈莺飞
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 反射高能电子衍射 外延生长 高温超导体
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 56-60
• 页数: 5页
• 分类号: O51
• 字数: 1946字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2004.01.011

摘要

我们自行研制了具有三级差分气路可以在高气压下工作的RHEED系统(High-pressure RHEED),并利用本系统实时监测了(001)SrTiO3基片上SrTiO3:Nb、Ba0.5Sr0.5TiO3、YBa2Cu3O7单层薄膜,及Ba0.5Sr0.5TiO3/SrTiO3:Nb双层膜的生长过程.研究结果表明当镀膜室氧压高达21Pa时该系统仍然可以正常工作,并且能够获取较清晰的衍射图样.通过分析衍射图样我们发现,所有这些薄膜都是外延生长且晶体质量良好,但薄膜生长模式及表面平整度受沉积条件影响较大.在真空下薄膜基本上以层状模式生长,具备纳米级光滑的表面,且其表面平整度并不因膜厚的改变而变化;而在10Pa量级氧压下薄膜更倾向于以岛状模式生长,膜表面平整度较差,并且随膜厚的增加粗糙度上升.此外对多层薄膜而言,底层薄膜的表面和结构直接影响到顶层薄膜的质量和品质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈莺飞		1	1	1.0	1.0
2	李洁		1	1	1.0	1.0
3	朱小红		1	1	1.0	1.0
4	王萍		1	1	1.0	1.0
5	郑东宁		1	1	1.0	1.0