微带蚀刻工艺影响因素的探讨

• 作者: 田波
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微带 蚀刻 酸性氯化铜 络合离子
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 50-51
• 页数: 2页
• 分类号: TN4
• 字数: 2429字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.02.020

摘要

阐述了在微带精密蚀刻过程中影响蚀刻速率变化的诸多因素,探讨了酸性氯化铜蚀刻液工艺控制应该注意的问题和解决办法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田波		10	52	4.0	7.0