退火处理对TiNi合金钽镀层微观组织结构的影响

• 作者: 成艳 李洪涛 蔡伟 赵连城 郑玉峰
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 形状记忆合金 离子镀 钽 镀层
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 44-46,50
• 页数: 4页
• 分类号: TG163
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2004.07.011

摘要

采用多弧离子镀的方法在TiNi形状记忆合金表面镀覆了厚度为3μm的钽镀层,并对其进行了不同温度的真空退火处理.通过X射线衍射(XRD)研究发现,未经退火的镀层是由不稳定的β-Ta组成,分别经过700, 800, 900℃,1h退火后转变为α-Ta.透射电子显微镜(TEM)的观察发现,采用多弧离子镀的方法可以在TiNi合金表面得到纳米尺寸的β-Ta镀层.在700℃退火时可以得到由40 nm左右的微晶和150 nm左右的较大晶粒混合而成的α-Ta.当退火温度为900℃时,镀层主要由尺寸较大而且均匀的α-Ta组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑玉峰	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院材料物理与化学系	38	385	11.0	18.0
2	赵连城	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院材料物理与化学系	107	1153	16.0	29.0
3	蔡伟	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院材料物理与化学系	73	482	13.0	17.0
4	李洪涛	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院材料物理与化学系	26	109	6.0	9.0
5	成艳	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院材料物理与化学系	4	27	3.0	4.0