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集成高分子光子学器件平台
集成高分子光子学器件平台
作者:
Aydin Yeniay
朱劲松
蔡永明
高任峰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
全氟高分子
纳米加工
光损耗
孔道波导
摘要:
在高分子基板上制作成的单膜全氟高分子波导结构,具有非热敏感性、偏振无关的工作特点,同时,在1310 nm、1550 nm工作波长分别有<0.04和<0.05 dB/cm的超低光损耗.本文研究了在器件制作过程中所产生的孔状结构对传输损耗的直接影响.实验证明,超低的传输损耗可以通过降低孔状结构的尺度至纳米范围来实现.这些波导结构可以成为新一代高性能集成高分子光子器件的技术平台.
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文献信息
篇名
集成高分子光子学器件平台
来源期刊
感光科学与光化学
学科
工学
关键词
全氟高分子
纳米加工
光损耗
孔道波导
年,卷(期)
2004,(6)
所属期刊栏目
综述
研究方向
页码范围
444-454
页数
11页
分类号
TQ57
字数
1405字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1674-0475.2004.06.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱劲松
中国科学院理化技术研究所
1
3
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传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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2019(1)
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二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
全氟高分子
纳米加工
光损耗
孔道波导
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
影像科学与光化学
主办单位:
中国科学院理化技术研究所
中国感光学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1674-0475
CN:
11-5604/O6
开本:
16开
出版地:
北京市海淀区中关村东路29号 中科院理化所
邮发代号:
2-383
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
1689
总下载数(次)
4
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