80nm应用中的高数位孔径,双载具193nm TWINSCAN扫描分步投影机

• 作者: 程天风
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻系统 投影 影像 对准
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 7-11,34
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 2634字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2004.02.003

摘要

针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战.其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据.80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平.本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,并包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最佳的影像保真度.