常压化学气相沉积方法制备非晶硅薄膜及其光致发光性能研究

• 作者: 刘涌 宋晨路 沃银花 肖瑛 韩高荣
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光致发光 非晶硅 Raman XPS
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 469-471
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.25
• 字数: 1186字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.06.019

摘要

使用改进的常压化学气相沉积(APCVD)系统制备了非晶硅薄膜,测量了样品的光致发光特性,使用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)谱测量了薄膜的微结构特征.样品在523 nm出现发光峰,Raman光谱和XPS谱表明制备的薄膜结构中存在富氧相和富硅相的分相现象,分析认为相界面的存在是产生发光的原因.Raman光谱分峰结果表明薄膜中存在纳米晶粒.