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摘要:
用改进的热壁物理气相沉积(HWPVD)装置制备出晶体质量较好的多晶HgI2膜,研究了生长参数对沉积膜质量的影响,对多晶HgI2膜用金相显微镜、XRD、红外光谱进行了表征观察及对用多晶HgI2膜制备的探测器采用了暗电流测试和电容频率特性测试.结果表明PVD法制备的多晶HgI2膜纯度高,结构完整性好,均匀性好,并且其相应器件有低的暗电流(电场0.2 V/μm时,暗电流为25 pA/mm2)和较小的电容(约1 pF),可用于实际应用.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 多晶碘化汞膜的PVD法制备及其光电特性
来源期刊 半导体光电 学科 物理学
关键词 多晶 碘化汞 物理气相沉积 探测器
年,卷(期) 2004,(6) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 493-495,498
页数 4页 分类号 O782.7
字数 2636字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.06.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 史伟民 上海大学材料科学与工程学院 56 313 10.0 14.0
2 雷平水 上海大学材料科学与工程学院 5 38 4.0 5.0
3 邱永华 上海大学材料科学与工程学院 6 57 4.0 6.0
4 葛艳辉 上海大学材料科学与工程学院 4 25 3.0 4.0
5 徐菁 上海大学材料科学与工程学院 6 24 3.0 4.0
6 潘美军 上海大学材料科学与工程学院 4 30 3.0 4.0
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半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
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