全息离子束刻蚀衍射光栅

• 作者: 傅绍军 徐向东 洪义麟 王占山
• 来源期刊: 物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 前沿进展
• 页码范围: 340-344
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 5117字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0379-4148.2004.05.007

摘要

全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点.全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软X射线衍射光栅的制作.文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型、研究现状和应用进行了综述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	同济大学物理系	74	701	15.0	21.0
3	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
4	王占山	同济大学物理系	92	640	14.0	19.0
7	傅绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	13	227	9.0	13.0