化学镀Ni-P合金稳定剂的研究

• 作者: 冯立明 孙华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 稳定剂 沉积速度 镀液稳定性
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 32-34
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2566字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.05.013

摘要

研究了几种稳定剂对化学镀Ni-P合金镀液的影响.采用对比试验比较了镀速和稳定性的变化规律.研究结果表明:稳定剂浓度增大时,镀速先增加至最高值,然后下降.痕量的稳定剂对镀液的稳定性有决定性的影响.得出了较合适的各稳定剂用量范围:稳定剂B和Pb(Ac)2为1～2mg/L;KIO3为6～10mg/L;Na2S2O3为2.5mg/L.对相关稳定剂的机理进行了探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙华	山东建筑工程学院材料科学与工程系	30	173	8.0	11.0
2	冯立明	山东建筑工程学院材料科学与工程系	66	341	10.0	14.0