射频磁控溅射制备纳米TiO2薄膜及其光致特性研究

• 作者: 崔晓莉 杨锡良 沃松涛 沈杰 章壮健
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 二氧化钛 薄膜 亲水性 光催化
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 81-86
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3854字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.02.001

摘要

在室温下采用射频溅射法制备纳米TiO2薄膜,并用XRD、AFM、Raman谱仪等手段研究了不同溅射气压及不同退火温度处理后薄膜的结构及其相应的亲水性、光催化能力.结果表明:在室温下制备的薄膜为无定形结构,当退火温度超过400 ℃时转化为锐钛矿结构.在400 ℃下退火1 h的薄膜具有良好的亲水性和光催化能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈杰	复旦大学材料科学系	79	645	12.0	22.0
2	沃松涛	复旦大学材料科学系	11	229	8.0	11.0
3	崔晓莉	复旦大学材料科学系	42	1222	18.0	34.0
4	杨锡良	复旦大学材料科学系	22	512	13.0	22.0
5	章壮健	复旦大学材料科学系	41	667	16.0	24.0