溅射方位对IBS沉积TbDy-Fe薄膜性质的影响

• 作者: 卢志红 周白杨 姜华 林梅 邓光华
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜 离子束溅射 溅射方位 薄膜特性
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 367-371
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O484.4
• 字数: 3459字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.05.012

摘要

本文采用铸造合金靶材和离子束溅射(IBS)技术制备TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜(GMFs),研究了不同溅射方位(α角)对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响.结果表明,在给定的溅射角范围内,薄膜表面平整光滑,组织致密,膜厚均匀且与基片结合良好,膜的结构均为非晶态;成膜生长速率、膜层成份以及λ值随α角的改变均呈现规律性的变化,当α角为α6左右时,沉积速率最大;在α角为α5左右范围内,膜层的成份最接近于靶材成份;α角在α4附近时用Tam 法试验测定在Hmax＝0.57 T下的磁伸值λ∥可达970×10-6,在中低场强H=0.25 T下,λ∥值达到710×10-6.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周白杨	福州大学材料科学与工程学院	36	89	5.0	7.0
2	邓光华	福州大学材料科学与工程学院	10	37	4.0	5.0
3	林梅		5	33	3.0	5.0
4	姜华	福州大学材料科学与工程学院	3	6	2.0	2.0
5	卢志红	福州大学材料科学与工程学院	3	19	3.0	3.0