热喷涂氧化钇稳定的氧化锆相退火时的变化

• 作者: 王华仁
• 来源期刊: 热处理技术与装备
• 关键词: 中子散射 氧化钇稳定的氧化锆 相组份 Rietveld分析
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-4971.2004.06.007

摘要

由氧化钇部分稳定化的氧化锆(Y-PSZ)制备的热障涂层的相稳定性,是延长使用寿命的一个要求.用中子衍射数据的Rietveld分析法计算Y-PSZ等离子喷涂层分别在1 000 ℃、1 200 ℃和1 400 ℃时退火1～1 000 h的特性曲线.结果表明,喷涂态正方晶系氧化锆的组成中,氧化钇的浓度一般随退火温度和时间的增加而降低.当氧化钇在正方晶系相中的含量接近极限浓度时,正方晶系相冷却时转变为单斜晶系相.在1 400 ℃退火24 h后已清晰看到单斜晶系相含量增加.在1 400 ℃退火100 h后已接近35%;在1 200 ℃退火较长时间后也看到相似的趋势,在400 h后开始形成单斜晶系相.在1 000 ℃的实验时间内,虽然看到了正方晶系相中氧化钇的浓度减少,但是还不足以形成单斜晶系相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王华仁		14	119	7.0	10.0