射频功率对氟化非晶碳薄膜微观性能的影响

• 作者: 刘雄飞 周昕 张云芳 肖剑荣 高金定
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 射频功率 氟化非晶碳薄膜 微观性能
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 性能研究
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TM215.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2004.04.012

摘要

以CH4和CF4的混合气体作源气体,利用等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD),改变射频功率,制备了一批氟化非晶碳薄膜样品.用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,发现随着射频功率增大,薄膜均匀性变差,掩蔽效应作用加剧.FITR光谱分析表明:薄膜中主要含有CFx和C=C键,较低功率下沉积的薄膜中主要含有CF2和CF3,较高功率下沉积的薄膜中主要含CF和CF2.Raman光谱分析发现在较高沉积功率下沉积的薄膜中出现了由sp2和sp3混合微晶结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高金定	中南大学物理科学与技术学院	15	96	5.0	9.0
2	刘雄飞	中南大学物理科学与技术学院	63	517	13.0	21.0
3	肖剑荣	中南大学物理科学与技术学院	23	103	6.0	8.0
4	周昕	中南大学物理科学与技术学院	7	12	2.0	3.0
5	张云芳	中南大学物理科学与技术学院	5	13	2.0	3.0