光-暗双固化共性覆膜胶研究进展

• 作者: 庞来兴 廖正福 袁慧雅 陈用烈 齐宇颂
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 光-暗双重固化 混杂聚合 共性覆膜胶
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 52-56
• 页数: 5页
• 分类号: TM215|TQ316.312
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2004.04.016

摘要

在27篇文献的基础上综述了光-暗双固化共性覆膜胶的研究概况,介绍了光-暗双重混杂聚合机理、常见适用树脂及其特点和光-暗双固化共性覆膜胶的种类;研究表明体系内同时存在光引发聚合和非光引发聚合固化反应的共性覆膜胶,能很好地解决普通光固化共性覆膜胶中的"阴影"固化困难的问题;比较了不同基体树脂的共性覆膜胶性能后,指出光-暗双固化共性覆膜胶在印刷线路板、罩面、涂敷防护和装饰等行业具有广泛的应用前景,同时展望了光-暗双固化共性覆膜胶的未来发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈用烈	中山大学高分子研究所	52	824	18.0	26.0
2	廖正福	广西师范学院化学系	19	236	9.0	15.0
6	袁慧雅	中山大学高分子研究所	8	139	7.0	8.0
7	庞来兴	中山大学高分子研究所	8	161	6.0	8.0
8	齐宇颂	中山大学高分子研究所	3	55	3.0	3.0