H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响

• 作者: 于涛 吴迪 王东生 胡安
• 来源期刊: 南京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: SBT薄膜 混合气氛 铁电性能
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 774-777
• 页数: 4页
• 分类号: TN384
• 字数: 2382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2615.2004.06.022

摘要

在Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上,用金属有机物分解(MOD)法制备了SrBi2Ta2O9(SBT)铁电薄膜.通过对SBT薄膜表面形貌变化的结果表明,SBT薄膜经过氮氢混合气氛(forming gas,95%N2+5%H2)退火后,由于氢的还原作用造成了Bi的缺失,从而导致了薄膜铁电性能的退化,SEM结果表明还原出来的Bi在薄膜表面形成柱状结构.而SBT薄膜经过1 h 750℃的氧气氛退火处理后,由于Bi被重新氧化,SBT薄膜的铁电性能可以得到恢复.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王东生	南京航空航天大学理学院	59	582	13.0	22.0
2	于涛	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	59	612	12.0	24.0
3	吴迪	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	28	74	5.0	8.0
4	胡安	南京大学固体微结构物理国家重点实验室	13	46	2.0	6.0