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摘要:
采用循环伏安法和石英晶体微天平(QCM)技术对四氨基钴酞菁(CoTAPc)在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,考察了扫描速度、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响,同时初步探讨了聚合膜分别在非水溶液和水溶液中的氧化还原行为及稳定性,其中借助EQCM重点讨论了在这些过程中溶液中离子在膜中传输的机理.
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四氨基铜酞菁(CuTAPc)在金电极上成膜过程的研究
石英晶体微天平
循环伏安法
四氨基铜酞菁
成膜过程
离子传输
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文献信息
篇名 四氨基钴酞菁(CoTAPc)在金电极上成膜过程的研究
来源期刊 传感技术学报 学科 工学
关键词 石英晶体微天平 循环伏安法 四氨基钴酞菁 成膜过程 离子传输
年,卷(期) 2004,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 306-313
页数 8页 分类号 TP212.2
字数 6267字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-1699.2004.02.033
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研究主题发展历程
节点文献
石英晶体微天平
循环伏安法
四氨基钴酞菁
成膜过程
离子传输
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