化学沉积钴基纳米晶合金涂层工艺

• 作者: 吴玉程 张勇 张立德 李广海 王文芳 舒霞 郑玉春 黄新民
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 钴镍硼合金 钴镍磷合金 化学沉积 纳米晶 合金涂层
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 3160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2004.01.014

摘要

化学沉积是制备纳米材料的一种良好方法,通过控制溶液组份和操作条件可以获得不同尺度的纳米晶.在化学沉积钴硼、钴磷合金纳米晶涂层制备工艺的基础上,制备了钴镍硼、钴镍磷纳米晶合金涂层,研究了三元纳米晶合金的沉积速率和显微组织结构.结果表明:当CCo2+/CNi2+=3:2时,pH值7.2,温度80℃,负载因子0.4 dm2/L,可以获得钴镍硼合金纳米晶.以纳米晶钴磷合金沉积液为基本配方,CCo2+/(CCo2+CNi2+)保持在0.1～0.5之间变化,可获得较好的纳米晶钴镍磷合金沉积层.