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摘要:
针对可见光垂直腔面发射激光器的制备,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分AlxGa1-xAs的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响,结合器件结构设计确定了氧化限制层AlxGa1-x-As的铝组分和最佳位置,并制备出了低阈值电流的AlGaInP系垂直腔面发射激光器.
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文献信息
篇名 高铝AlxGa1-xAs氧化层对垂直腔面发射激光器的影响
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 AlxGa1-xAs湿氮选择氧化 微区光致发光谱 垂直腔面发射激光器
年,卷(期) 2004,(5) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 589-593
页数 5页 分类号 TN248.4
字数 1224字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.05.021
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 侯识华 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心 12 124 5.0 11.0
2 陈良惠 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心 59 338 11.0 15.0
3 宋国峰 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心 22 88 6.0 8.0
4 康香宁 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心 4 21 2.0 4.0
5 叶晓军 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心 11 50 4.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
AlxGa1-xAs湿氮选择氧化
微区光致发光谱
垂直腔面发射激光器
研究起点
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
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1980
eng
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