一种用于暗域交替式相移掩模设计的自适应版图划分方法

• 作者: Hon Xuanglong Wang Di Wu Weimin 吴为民 洪先龙 王迪
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路计算机辅助设计 相移掩模 划分 相位冲突 可制造性设计
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 766-770
• 页数: 5页
• 分类号: TN47
• 字数: 650字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.07.005

摘要

提出了一种新的用于加速130nm以下工艺交替式相移掩模设计流程的版图划分方法,该方法能够自适应调整版图划分的粒度.讨论了消除相位冲突的方法和版图压缩中相位兼容性保持的策略.利用上述算法实现的CAD原型系统经多个工业界例子的测试表明能够有效地适应随版图尺寸而快速增长的相位冲突复杂性,同时提供较好的PSM设计质量,并能满足不同求解精度和加速比的要求.