Al4SiC4陶瓷的高温抗氧化性能和高温力学性能的研究

• 作者: 温广武 程显明 黄小萧
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: Al4SiC4陶瓷 高温抗氧化性能 高温力学性能
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2004.12.008

摘要

对Al4SiC4陶瓷的高温抗氧化性能及高温力学性能进行了研究.结果表明,Al4SiC4陶瓷具有优良的高温抗氧化性能,其高温氧化动力学符合抛物线氧化规律.氧化层由三层构成:致密的外氧化层,具有较大孔洞的内氧化层和具有较多细小孔洞的反应层.该陶瓷显示了独特的高温弯曲强度特性,即在1000～1300℃的测试温度范围内,Al4SiC4陶瓷的高温弯曲强度随温度的升高而升高.1300℃时其值为449.73MPa,与室温弯曲强度(297.10 MPa)相比,其增幅为50%左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄小萧	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	11	28	3.0	4.0
2	温广武	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	34	462	12.0	21.0
3	程显明	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	1	6	1.0	1.0