磁控溅射膜厚均匀性与靶-基距关系的研究

• 作者: 徐均琪 易红伟 杭凌侠 蔡长龙
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 厚度均匀性 靶-基距 磁控溅射 溅射速率
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 专题论述
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2215字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.02.006

摘要

从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性.根据磁控溅射阴极靶刻蚀的实际测量数据,建立了靶的刻蚀速率方程,以此为依据,对膜厚均匀性的有关公式进行了讨论.采用计算机计算了基片处于不同靶-基距时,膜厚均匀性的分布.研究结果表明,随着靶基距的增加,膜厚均匀性逐渐变好.在同样的靶基距下,沿靶长度方向的均匀性明显优于宽度方向.最后,通过实验证实了上述结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业学院光电工程学院	87	611	13.0	20.0
2	杭凌侠	西安工业学院光电工程学院	93	777	15.0	22.0
3	蔡长龙	西安工业学院光电工程学院	82	319	8.0	14.0
4	易红伟		5	352	5.0	5.0