低介电常数纳米多孔氧化硅薄膜的研究进展

• 作者: 冯坚 周新贵 张长瑞 杨大祥 王娟
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 电子技术 纳米多孔氧化硅薄膜 综述 检测方法
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 科技动态
• 页码范围: 41-45
• 页数: 5页
• 分类号: TN604
• 字数: 5233字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2004.09.015

摘要

纳米二氧化硅(NPS)薄膜是新型微波大功率器件和超大规模集成电路(ULSI)互连系统的最佳候选绝缘介质之一,有着广泛的应用前景.介绍了NPS薄膜的制备工艺,综述了NPS薄膜的国内外研究进展及其检测方法,并探讨了NPS薄膜材料的弱点以及今后应进一步研究的若干问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张长瑞	国防科技大学航天与材料学院	138	1800	24.0	32.0
2	冯坚	国防科技大学航天与材料学院	43	533	13.0	22.0
3	杨大祥	国防科技大学航天与材料学院	9	96	5.0	9.0
4	周新贵	国防科技大学航天与材料学院	93	1060	19.0	27.0
5	王娟	国防科技大学航天与材料学院	20	187	8.0	13.0