TiO2薄膜溅射工艺参数对其光催化性能的影响

• 作者: 侯亚奇 吴敏生 庄大明 张弓
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 工艺参数 光催光降解 亚甲基蓝
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 87-91,104
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4350字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.02.002

摘要

利用中频交流反应磁控溅射方法制备TiO2薄膜光催化剂,研究了溅射工艺参数对薄膜光催化能力的影响.采用动态反应系统,紫外光源为TUV,降解对象为0.02 mmol/L亚甲基蓝溶液.结果发现:Ar/O2混合反应溅射在O2分压大于9%之后亦可制备出光催化能力与纯O2溅射相近的TiO2薄膜.TiO2薄膜厚度是影响其光催化降解能力的最敏感因素,800 nm以下TiO2薄膜降解能力基本与厚度成正比.TiO2薄膜在黑暗环境下长期放置,光催化性能会出现一定下降,但紫外光预照射可以使其有效恢复.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张弓	清华大学机械工程系	81	914	16.0	27.0
2	庄大明	清华大学机械工程系	104	1374	22.0	32.0
3	吴敏生	清华大学机械工程系	60	904	18.0	27.0
4	侯亚奇	清华大学机械工程系	16	287	10.0	16.0