高真空电子器件金属零件化学研磨工艺

• 作者: 屈战民
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 高真空电子器件 化学研磨 哑光控制
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺开发
• 页码范围: 28-30
• 页数: 3页
• 分类号: TG178
• 字数: 2812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2004.04.008

摘要

普通型不锈钢化学研磨液无法消除毛刺、保证零件精密公差尺寸和表面粗糙度,严重影响高真空电子器件金属零件的使用性能.确定了一套完整的54cm FS高真空电子器件金属零件化学研磨工艺.介绍了该工艺的工艺流程及工艺规范.讨论了化学研磨原理及金属哑光表面控制.测量了54 cm FS高真空电子器件金属零件利用该工艺化学研磨后的表面粗糙度、孔直径、显微毛刺尺寸、平面度、孔部真圆度.结果表明,该工艺可以使零件表面达到哑光状态、保证精密公差尺寸、改善表面平整度、促进零件孔的真圆度,降低了生产成本,具有较高的推广价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	屈战民		16	71	5.0	8.0