光刻版图形处理过程的计算机仿真

• 作者: 曹庄琪 粟鹏义 陈开盛
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 仿真 有限状态机 光刻版 电子设计自动化 集成电路
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2135字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2004.11.009

摘要

采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理.将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换.该模型已应用于光刻版数据处理的电子设计自动化软件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹庄琪		56	224	8.0	11.0
2	粟鹏义		3	4	1.0	2.0
6	陈开盛		5	4	1.0	2.0