深亚微米设计中天线效应的消除

• 作者: 叶青 周玉梅 杨旭 黄令仪
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: PAE效应 等离子 栅氧化层 可靠性
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 879-883
• 页数: 5页
• 分类号: TN402
• 字数: 3411字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.07.026

摘要

分析了PAE效应(process antenna effect)的成因,并在此基础上提出了几种在深亚微米ASIC设计中消除PAE效应的方法.其方法应用于"龙芯-I CPU"的后端设计,保证了投片的一次成功.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨旭	中国科学院微电子研究所	53	570	15.0	21.0
2	周玉梅	中国科学院微电子研究所	94	1031	16.0	28.0
3	叶青	中国科学院微电子研究所	103	768	15.0	25.0
4	黄令仪	中国科学院微电子研究所	12	63	3.0	7.0