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摘要:
研究了微弧氧化处理中起始电压U始、终止电压U终对陶瓷层的影响,发现电压是决定微弧氧化陶瓷层生长厚度及表面粗糙度的关键.结果表明:当起始电压U始相等时,终止电压U终(或△U)愈高,陶瓷层厚度愈厚;当终止电压U终相等时,起始电压U始愈高,陶瓷层厚度也愈厚.试样的表面粗糙度随微弧氧化处理终止电压U终的升高而增加,与U始变化的关系不明显.
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关键词云
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文献信息
篇名 镁合金微弧氧化处理电压对陶瓷层的影响
来源期刊 表面技术 学科 工学
关键词 镁合金 微弧氧化 陶瓷层 粗糙度 电压
年,卷(期) 2004,(3) 所属期刊栏目 试验研究
研究方向 页码范围 17-18
页数 2页 分类号 TG174.4|TG146.2
字数 1489字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.03.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王利捷 长安大学工程机械学院 27 204 8.0 13.0
2 陈宏 长安大学工程机械学院 54 743 14.0 26.0
3 郝建民 长安大学工程机械学院 80 930 17.0 28.0
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研究主题发展历程
节点文献
镁合金
微弧氧化
陶瓷层
粗糙度
电压
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
月刊
1001-3660
50-1083/TG
16开
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
78-31
1972
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
论文1v1指导