正畸托槽去除后两种釉质抛光法对比研究--釉质扫描电镜观察

• 作者: 丁寅 付善民 史真 曹猛 王海雪
• 来源期刊: 牙体牙髓牙周病学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 釉质 抛光 电子显微镜 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 319-321
• 页数: 3页
• 分类号: R780.2
• 字数: 1274字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2593.2004.06.007

摘要

目的:观察去除黏结后釉质表面不同处理方法对牙齿表面结构的影响,为临床提供一种新的釉质抛光方法.方法:选择因正畸治疗需拔除4个第一前磨牙的患者8例,共32个牙.不同的个体,按同名牙分成4组,每组8个,分别用常规的方法和釉质处理仪进行牙面抛光处理,同时记录抛光时间,拔除后,测量其表面粗糙度Ra,然后扫描电镜观察.结果:正畸过程中釉质组织结构有变化,釉质处理仪抛光牙面优于常规方法,Ra值釉质处理仪组可以达到常规组的抛光效果,且效率提高.结论:釉质处理仪对牙表面的处理结果可以达到临床要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁寅	第四军医大学口腔医学院	193	1342	18.0	24.0
2	王海雪	第四军医大学口腔医学院	41	271	9.0	15.0
3	付善民	第四军医大学口腔医学院	11	55	4.0	7.0
4	曹猛	第四军医大学口腔医学院	19	100	5.0	9.0
5	史真	第四军医大学口腔医学院	5	52	3.0	5.0