包裹沉淀法制备Ni/YSZ阳极材料及性能研究

• 作者: 周阳 李海龙 王凤华 郭瑞松 魏楸桐
• 来源期刊: 中国陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: Ni/YSZ金属陶瓷 包裹沉淀法 微观结构 电导率
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 38-40,34
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 2081字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9642.2004.01.009

摘要

采用共沉淀法在NiO表面均匀地包裹了一层无定形氢氧化锆.在600℃和800℃下煅烧,YSZ包裹层结晶得到20nm左右的立方ZrO2.Ni/YSZ阳极材料主要的微观结构的变化是金属Ni的团聚和粗化.在NiO表面的YSZ层,有效地抑制了Ni的烧结,并防止了Ni的团聚.经过SEM分析,YSZ形成了连续的网络结构,Ni均匀地分布在YSZ网络结构中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭瑞松	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	56	747	16.0	25.0
2	李海龙	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	14	117	6.0	10.0
3	魏楸桐	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	8	61	5.0	7.0
4	王凤华	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	7	57	5.0	7.0
5	周阳	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	5	20	2.0	4.0