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真空镀膜设备用磁流体密封组件设计使用中的若干问题探讨
真空镀膜设备用磁流体密封组件设计使用中的若干问题探讨
作者:
张振厚
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁流体
密封技术
真空镀膜
摘要:
就真空镀膜设备中应用磁流体密封技术的若干问题进行了探讨.
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文献信息
篇名
真空镀膜设备用磁流体密封组件设计使用中的若干问题探讨
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
磁流体
密封技术
真空镀膜
年,卷(期)
2004,(1)
所属期刊栏目
实验研究
研究方向
页码范围
41-45
页数
5页
分类号
TB43|TB743
字数
2846字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-0322.2004.01.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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1
张振厚
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研究来源
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期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
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3
总被引数(次)
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