用XPS和AFM等方法研究氮化钛薄膜的物理化学特性

• 作者: 张寒洁 江宁 沈耀根 鲍世宁
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 氮化钛 原子力显微镜 X光电子能谱
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 459-464
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 4420字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.06.017

摘要

采用反应非平衡磁控溅射方法制备了氮化钛(TiN)薄膜,沉积时的衬底偏压的范围从0V到-500 V.实验结果表明:TiN薄膜的物理特性和力学性能随衬底偏压变化,最佳的薄膜硬度与弹性模量在偏压为-100 V时得到.AFM的测量结果显示薄膜的表面形貌和粗糙度随衬底偏压变化有一个非线性的变化趋势,同样的趋势也出现在Ti2p和N1s的芯态能谱上.特定谱峰的强度和位置的变化预示着偏压引起的薄膜成分和化学态的变化,XPS的结果表明:适当的偏压有助于TiN的成键,稳定的化学结构防止了表面的氧化和扩散,抑制了杂质和缺陷的形成,良好的机械特性归于表面形貌的改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲍世宁	浙江大学物理系	40	77	5.0	7.0
2	张寒洁	浙江大学物理系	22	56	3.0	6.0
3	江宁	浙江大学物理系	2	20	1.0	2.0
7	沈耀根	香港城市大学机械制造工程与管理系	1	19	1.0	1.0