基于PLC实现等离子弧喷涂电流调节

• 作者: 张义顺 李德元 滕文华
• 来源期刊: 自动化信息
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子弧 喷涂 电流调节 PLC程序 主控系统 衰减 可控硅触发 过程 模拟量 模块
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 29-30
• 页数: 2页
• 分类号: TP273

摘要

在等离子弧喷涂过程中，要求电流在喷涂开始时有递增和结束后有衰减的过程。在以可编程控制器为核心的喷涂主控系统里，通过模拟量输入输出模块EM235和CF2B-2A型可控硅触发器及辅助电路，利用PLC程序实现了喷涂电流的递增、衰减过程。