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Si3N4薄膜的成分与结构研究
Si3N4薄膜的成分与结构研究
作者:
刘伯实
赵毅红
陈荣发
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Si3N4
薄膜
成分
结构
摘要:
通过PECVD方法,在Si基体表面制备了Si3N4薄膜,给出了XRD、TEM、AES、DPS的分析结果,表明Si3N4是非晶态结构,薄膜的主要成分是Si3N4,SEM分析结果显示Si3N4薄膜与基体材料的结合强度高,薄膜致密性好.
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Si3N4
Si3N4/BN层状材料
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相关学者/机构
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期刊文献
内容分析
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关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
Si3N4薄膜的成分与结构研究
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
Si3N4
薄膜
成分
结构
年,卷(期)
2004,(4)
所属期刊栏目
学术论文
研究方向
页码范围
71-73
页数
3页
分类号
TB43
字数
1400字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-0322.2004.04.017
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈荣发
扬州大学机械工程学院
51
260
8.0
13.0
2
赵毅红
扬州大学机械工程学院
27
84
5.0
8.0
3
刘伯实
2
13
2.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
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节点文献
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同被引文献
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参考文献(0)
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2010(3)
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2011(1)
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二级引证文献(1)
2012(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2013(4)
引证文献(0)
二级引证文献(4)
2014(3)
引证文献(2)
二级引证文献(1)
2015(4)
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2016(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
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二级引证文献(4)
2018(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2019(4)
引证文献(1)
二级引证文献(3)
研究主题发展历程
节点文献
Si3N4
薄膜
成分
结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898
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