聚合物发光器件的旋涂膜厚模型研究

• 作者: 刘陈 尹盛 张五星 是度芳 钟志有
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 聚合物发光器件 旋涂 最小二乘法 回归模型
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 191-193,208
• 页数: 4页
• 分类号: TN383.1
• 字数: 2141字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.03.008

摘要

聚合物膜厚的控制对于优化聚合物发光器件的光电性能是至关重要的.应用最小二乘法,通过对中心复合设计实验数据的拟合,建立了旋涂法制备聚合物薄膜的膜厚回归模型.测试结果表明:利用该模型所得到的预测膜厚与旋涂的实测膜厚基本相符.膜厚模型的建立,对于旋涂工艺中旋涂条件的选择、薄膜厚度的控制以及器件性能的优化具有一定的实用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	是度芳	华中科技大学物理系	77	621	13.0	21.0
2	尹盛	华中科技大学电子科学与技术系	38	448	12.0	19.0
3	张五星	华中科技大学电子科学与技术系	21	157	8.0	12.0
4	刘陈	华中科技大学电子科学与技术系	27	371	10.0	18.0
5	钟志有	华中科技大学物理系	13	246	8.0	13.0