硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀

• 作者: 刘强 姚汉民 张晓玉 张磊 张福甲 杜春雷 潘莉
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光子晶体 光刻 离子蚀刻 激光直写 扫描电子显微镜
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 微光学
• 页码范围: 1-3,7
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1697字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.02.001

摘要

用光刻和反应离子刻蚀的方法对硅材料光子晶体板的制作进行了研究.实验发现,与激光直写曝光相比,光刻曝光更有利于胶上图形的陡直度.扫描电子显微镜测试表明,反应离子刻蚀后得到深3.3μm,晶格周期10.95μm,占空比50%的孔状光子晶体板结构,孔的陡直度保持较好,基本满足设计要求.