APS对PPy/ SiO2纳米导电复合材料的界面改性研究

• 作者: 任丽 王立新
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 聚吡咯 二氧化硅 纳米复合材料 硅烷偶联剂 电导率 稳定性
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 69-70
• 页数: 2页
• 分类号: O631.2
• 字数: 1679字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.01.023

摘要

首先用不同百分含量的氨丙基三乙氧基硅烷(APS)处理SiO2,然后以水为反应介质,通过化学氧化聚合法合成PPy/APS-SiO2纳米复合材料,并利用热失重和四探针对复合材料进行表征和测试.结果表明用APS处理过的SiO2合成的复合材料的电导率和稳定性都有很大提高,其中用1%APS-SiO2合成的复合材料电导率最高,为38.46S/cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任丽	河北工业大学高分子科学与工程研究所	75	1321	20.0	35.0
2	王立新	河北工业大学高分子科学与工程研究所	50	1377	22.0	36.0