紊流模型模拟分析旋转对提拉大直径单晶硅的影响

• 作者: 宇慧平 安国平 常新安 张峰翊 隋允康
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 直拉单晶硅 紊流模型 晶体旋转 坩埚旋转
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 页码范围: 835-840
• 页数: 6页
• 分类号: O78
• 字数: 4243字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.032

摘要

本文采用紊流模型对提拉大直径单晶硅时,对晶体旋转、坩埚旋转及二者共同作用三种情况下,熔体内的流线、等温线、氧的浓度分布、紊流粘性系数、紊动能等作了数值模拟,发现晶体的旋转能提高氧的径向均匀性,紊流粘性系数和紊动能随着坩埚转速的提高先增加后下降.晶体坩埚同时旋转时并不能有效降低紊流粘性系数,但能使子午面上的流动受到抑制,等温线更为平坦,有利于晶体生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	隋允康	北京工业大学机电学院	183	2359	26.0	41.0
2	宇慧平	北京工业大学机电学院	38	239	9.0	13.0
3	常新安	北京工业大学材料学院	52	425	11.0	18.0
4	张峰翊		6	72	4.0	6.0
5	安国平	北京工业大学机电学院	19	166	7.0	12.0